✨ Luceda 2025.09 版本(běn)正式(shì)发布！ ✨

本(běn)次更新(xīn)带来了(le) 全(quán)新(xīn)LVS功能、交(jiāo)互(hù)式(shì)倣(fǎng)真工具(jù) Smatrix Visualizer、DRC 可视化、沉浸式(shì) Layout Visualizer 持续優(yōu)化、以及 更简洁高(gāo)效的良率分析(xī)工具(jù) Circuit Analyzer 等重(zhòng)磅功能。

一(yī)键 LVS，流片前吃下“定(dìng)心丸”

全(quán)新(xīn) Layout VS. Schematic (LVS) 功能，一(yī)键自动对比(bǐ)原(yuán)理图与版图，轻松(sōng)捕捉1nm snapping error，让设计更安心。

精准比(bǐ)对：自动騐(yàn)証(zhèng)Canvas原(yuán)理图与GDS版图一(yī)致(zhì)性(xìng)，避免设计误差。

一(yī)键操作(zuò)：调用(yòng)i3.run_lvs即(jí)可自动完成(chéng)网表提(tí)取与騐(yàn)証(zhèng)，高(gāo)效便(biàn)捷(jié)。

清晰报告：快速(sù)定(dìng)位(wèi)差异，輸(shū)出详细报告，加速(sù)调试流程(chéng)。

教程(chéng)护航：step-by-step教程(chéng)，助您(nín)轻松(sōng)上(shàng)手，确保流片成(chéng)功。

Smatrix Visualizer：全(quán)新(xīn)交(jiāo)互(hù)式(shì)倣(fǎng)真工具(jù)

全(quán)新(xīn)交(jiāo)互(hù)式(shì)倣(fǎng)真可视化器(qì)Smatrix Visualizer重(zhòng)磅登(dēng)場(chǎng)，即(jí)刻告别重(zhòng)复运行(xíng)腳(jiǎo)本(běn)的繁(fán)琐，专注于倣(fǎng)真結(jié)果的深度探索(suǒ)。

展开全(quán)文(wén)

动態(tài)交(jiāo)互(hù)：實(shí)时选择端口(kǒu)对、切换線(xiàn)性(xìng)/对數(shù)坐標(biāo)、自定(dìng)义图表样式(shì)等更多交(jiāo)互(hù)式(shì)体騐(yàn)。

性(xìng)能分析(xī)：鼠(shǔ)標(biāo)懸(xuán)停顯(xiǎn)示(shì)同一(yī)X轴的所(suǒ)有關(guān)联數(shù)据点，让串扰分析(xī)一(yī)目(mù)了(le)然。

灵活(huó)分享(xiǎng)：一(yī)键将倣(fǎng)真結(jié)构導(dǎo)出爲(wèi)高(gāo)质量图片或(huò)交(jiāo)互(hù)式(shì)HTML，轻松(sōng)用(yòng)于汇报与协作(zuò)。

还有更多新(xīn)功能...

01

135°钝角金(jīn)屬(shǔ)布線(xiàn)

支持135°转角，改善转弯处电流密度分布，提(tí)升均(jūn)匀性(xìng)与良率。

02

灵活(huó)锚点，器(qì)件布局更便(biàn)捷(jié)

丰富锚点系统，支持 i3.Anchor 自定(dìng)义锚点，精准控制(zhì)器(qì)件位(wèi)置。

03

沉浸式(shì) Layout Visualizer

像(xiàng)浏览器(qì)一(yī)样多標(biāo)签頁(yè)：无论一(yī)个腳(jiǎo)本(běn)中(zhōng)生成(chéng)了(le)多少(shǎo)張(zhāng)版图，都會(huì)在(zài)同一(yī)个窗口(kǒu)里用(yòng)標(biāo)签頁(yè)的形式(shì)打(dǎ)开，再(zài)也不會(huì)被(bèi)满屏(píng)的窗口(kǒu)淹没。

原(yuán)地刷(shuā)新(xīn)，无需手动關(guān)闭：修改代(dài)码后重(zhòng)新(xīn)运行(xíng)腳(jiǎo)本(běn)，版图會(huì)在(zài)原(yuán)来的標(biāo)签頁(yè)里自动更新(xīn)，彻底告别手动關(guān)了(le)一(yī)堆旧窗口(kǒu)再(zài)重(zhòng)新(xīn)打(dǎ)开的繁(fán)琐步骤。

调试效率神器(qì)：点击實(shí)例快速(sù)放大，一(yī)键复制(zhì)器(qì)件/端口(kǒu)名(míng)称。

04

DRC 可视化，快速(sù)定(dìng)位(wèi)问題(tí)

Layout Visualizer 现已(yǐ)支持直观顯(xiǎn)示(shì)銳(ruì)角点、层重(zhòng)叠等DRC违规標(biāo)记，助您(nín)快速(sù)定(dìng)位(wèi)问題(tí)根源。

05

良率分析(xī)工具(jù)：Circuit Analyzer

图形化配(pèi)置：在(zài)IPKISS Canvas中(zhōng)直观编辑Corner Analysis 配(pèi)置文(wén)件，简化流程(chéng)，大幅提(tí)升效率。

新(xīn)增案例：涵(hán)盖級(jí)联微(wēi)環(huán)在(zài)不同布局下的性(xìng)能分析(xī)对比(bǐ)。

06

PDK 搭建流程(chéng)简化

PDK 设置全(quán)面整合至.yaml 配(pèi)置文(wén)件中(zhōng)，load_tech() 函數(shù)即(jí)一(yī)键加载，減(jiǎn)少(shǎo)代(dài)码量，提(tí)升PDK开发效率。